日本半導体計測装置市場：Rapidusの2nm製造拡大とHigh-NA EUVのスケールアップが先進計測・検査装置の需要を促進
出典：ドリームニュース
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日本の半導体計測装置市場において、Rapidusが2nm製造の拡大を進めていることが注目されています。この動きは、先進的な計測・検査装置の需要を促進する要因となっています。特に、High-NA EUV（極紫外線）リソグラフィ技術のスケールアップが、製造プロセスの精度向上に寄与しています。これにより、半導体業界全体の競争力が高まることが期待されています。
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